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光刻膠去膠液的應(yīng)用案例

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光刻膠去膠液PL311是針對(duì)半導(dǎo)體晶圓芯片制造過(guò)程而設(shè)計(jì)，光刻膠層需要在制造過(guò)程結(jié)束時(shí)，從襯底表面去除。可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污，不引入任何污染物，潔凈度高，對(duì)各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無(wú)腐蝕，無(wú)毒無(wú)刺激性氣味，環(huán)保安全。

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